中微公司CCP电容式刻蚀机已达到国际先进技术水平7nm/5nm,在存储器中64层3D NAND已经实现量产,128层3D NAND稳步推进引L国内大规模进口替代,ICP电感式突破至1Xnm,未来有望导入产线加大应用;同时,公司开启平台化发展,参股沈阳拓荆(国内PECVD、ALD龙头)、Solayer(镀膜设备)并拟参股上海睿励(国内厚膜量测设备L先者),扩大业务L域,满足国内对薄膜设备、量测设备的等巨大需求,顺势做大做强。
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